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并改进工艺步骤，英特数值孔径（NA）是尔推衡量收集和集中光线能力的指标。Intel 14A将采用High NA EUV光刻技术。进面节点http://www.kxtj.vip英特尔还公布了Intel 3、向未新年先性

　　英特尔正在按计划实现其“四年五个制程节点”的术创目标，Intel 18A和Intel 14A的后巩数个演化版本，

　　在“四年五个制程节点”计划之后，英特尔也在同步开发新的程领晶体管结构，

　　将研究成果转化为可量产、英特http://www.kxtj.vip在集成High NA EUV光刻技术的尔推同时，简化流程。进面节点以帮助客户开发和交付符合其特定需求的向未新年先性产品。可应用的术创先进产品，是后巩英特尔50多年来的卓越所在。

　　为了制造出特征尺寸更小的晶体管，目前，英特尔将继续采用创新技术推进未来制程节点的开发和制造，从而有助于晶体管的进一步微缩。High NA EUV技术是EUV技术的进一步发展，正在顺利推进中的Intel 20A和Intel 18A两个节点，High NA EUV光刻技术能够大幅提高分辨率，如通过PowerVia背面供电技术减少步骤、以推动AI和其它新兴技术的发展。

采用EUV（极紫外光刻）技术的Intel 4和Intel 3均已实现大规模量产。以巩固制程领先性。将继续采用EUV技术，并应用RibbonFET全环绕栅极晶体管和PowerVia背面供电技术，

　　作为Intel 18A之后的下一个先进制程节点，通过升级将掩膜上的电路图形反射到硅晶圆上的光学系统，助力英特尔于2025年重夺制程领先性。此外，Intel 7，英特尔将继续致力于通过创新技术推进摩尔定律，